光刻机国产化处于"政策强制+技术验证"的临界点，低端放量在即，高端仍处0-1突破期
工信部推广国产DUV光刻机（套刻≤8nm），首次明确国产KrF/ArF光刻机列入《首台（套）重大技术装备目录》
中泰电子、国金电子等机构密集发布光刻机产业链报告，提出"从0到1"赛道逻辑
上海微电子更新光刻机专利，28nm浸没式DUV样机交付客户验证（路演显示良率约50%）
芯上微装500nm i线光刻机搬入头部fab厂，供应链物镜价值量从300万提升至500-600万
光刻机国产化处于"政策强制+技术验证"的临界点，低端（90nm-28nm）放量在即，高端（EUV）仍处0-1突破期
美国对华EUV禁运+荷兰DUV许可证收紧，倒逼国产替代从"可选"变"必选"
2025-2027年国产28nm光刻机若通过验证，可覆盖80%成熟制程需求，供应链公司订单弹性超10倍
上海微电子28nm浸没式DUV已完成0-1，物镜/光源/双工台三大核心部件国产化率从5%提升至30%
2024年工信部目录将国产KrF/ArF光刻机列为"首台套"，地方政府补贴比例达设备采购价的20%
国内12英寸晶圆厂月产能预计从2024年217万片增至2026年414万片，光刻机缺口达200台/年
2024年Q4至今发布光刻机深度报告超15篇（中泰、国金、华福等），为半导体设备子行业最高
机构乐观（"从0到1星辰大海"），产业专家谨慎（路演显示28nm样机需3-5年迭代才能量产）
认为国产光刻机=上海微电子整机突破
供应链价值量重构——茂莱光学i线物镜单机价值量从300万→500万，浸没式DUV物镜价值量或达5000万/台（10倍于i线）
上海微电子28nm DUV客户验证结果，良率≥70%将触发批量订单
大基金三期光刻机专项投资落地（预计规模100亿元，重点投向物镜、光源、双工台）
美国对华半导体管制清单更新，可能新增DUV机型限制
28nm DUV量产（覆盖逻辑/存储成熟制程），国产份额从0%→30%
14nm DUV突破（需多重曝光技术），供应链公司收入规模达百亿级
EUV国产化（需攻克13.5nm光源+0.55NA反射镜），打开千亿市场空间
| 公司 | 环节 | 进展 | 风险 |
|---|---|---|---|
| 茂莱光学 | 物镜 | 唯一量产i线物镜（300万/台），DUV非球面镜片送样通过（5000万/台） | 蔡司技术代差（PV精度差10倍） |
| 福晶科技 | 光源晶体 | KBBF晶体全球唯一供应商，EUV光源关键材料 | 下游验证周期长（2-3年） |
| 华卓精科 | 双工台 | 10nm精度双工台已供货上海微电子，浸没式DWSi在研 | 专利壁垒（ASML 2000+专利） |
| 张江高科 | 整机投资 | 间接持股上海微电子10.8%，参与光刻机产业园建设 | 整机量产进度低于预期 |
研报称"28nm光刻机=原子弹突破"，但路演专家透露当前良率仅50%（台积电1980i为70%），量产需3-5年
2024年中国光刻机进口额88亿美元（同比+121%），国产化率仍<5%，验证"低端放量、高端卡脖子"现状
| 股票名称 | 分类 | 产业链 | 关联原因 |
|---|---|---|---|
| 张江高科 | 整机 | 光刻机整机制造 | 属于光刻机整机制造环节 |
| 奥普光电 | 整机 | 光刻机整机制造 | 属于光刻机整机制造环节 |
| 东方嘉盛 | 维修服务 | - | 属于光刻机维修服务环节，且涨幅超10% |
| 福晶科技 | 零部件 | 光源 | 属于光刻机光源环节 |
| 波长光电 | 零部件 | 光源 | 属于光刻机光源环节 |
| 茂莱光学 | 零部件 | 光源/光学元件/光学系统 | 属于光刻机光源环节、光学元件环节、光学系统环节 |
| 赛微电子 | 零部件 | 物镜系统 | 属于光刻机物镜系统环节 |
| 苏大维格 | 零部件 | 光学元件 | 属于光刻机光学元件环节 |
| 晶方科技 | 零部件 | 光学元件 | 属于光刻机光学元件环节 |
| 腾景科技 | 零部件 | 光学元件 | 属于光刻机光学元件环节 |
| 炬光科技 | 零部件 | 光学元件/匀光器 | 属于光刻机光学元件环节、匀光器环节 |
| 京华激光 | 零部件 | 光学元件 | 属于光刻机光学元件环节 |
| 蓝英装备 | 零部件 | 洁净设备 | 属于光刻机洁净设备环节，且涨幅超10% |
| 美埃科技 | 零部件 | 洁净设备/过滤器 | 属于光刻机洁净设备环节、过滤器环节 |
| 联合精密 | 零部件 | 结构件 | 属于光刻机结构件环节 |
| 新莱应材 | 零部件 | 结构件 | 属于光刻机结构件环节 |
| 富创精密 | 零部件 | 结构件 | 属于光刻机结构件环节 |
| 清溢光电 | 零部件 | 掩膜版 | 属于光刻机掩膜版环节 |
| 路维光电 | 零部件 | 掩膜版 | 属于光刻机掩膜版环节 |
| 海立股份 | 零部件 | 温控系统 | 属于光刻机温控系统环节 |
| 同飞股份 | 零部件 | 温控系统 | 属于光刻机温控系统环节 |
| 上海微电子 | 整机 | 光源/光学器件/洁净装备/结构件/温控/服务/仓库 | 间接持股10.779%；子公司提供光刻机控制器；曾为光刻机设备零部件表面处理供应商；精密金属结构件；光刻机用冷却系统；建设光刻机寄售维修保税仓库 |
| 上海电气 | 整机 | 光刻机整机制造 | 控股股东持股41.09%；上海电气控股集团为第一大股东 |
| 电科数字 | 零部件 | 控制器 | 子公司可供货光刻机控制器 |
| 金力泰 | 零部件 | 洁净装备 | 子公司为上海微电子光刻机设备零部件表面处理供应商 |
| 安达智能 | 零部件 | 洁净装备 | 研发产品有等离子去胶机、分选机等 |
| 东方明珠 | 整机 | 光刻机整机制造 | 间接持股上海微电子1.73% |
| 华亚智能 | 零部件 | 结构件 | 光刻机设备精密金属结构件 |
| 百傲化学 | 零部件 | 结构件 | 参投企业研发D2W/W2W混合键合设备，弥补光刻机不足 |
| 凯美特气 | 材料供应商 | 工艺气体 | 光刻机专用气体供应商 |
| 冠石科技 | 零部件 | 掩膜版 | 光刻机掩膜版供应商 |
EUV光源（需250W功率+0.01nm线宽稳定性）和0.55NA反射镜（面型精度<0.12nm）仍被蔡司垄断
28nm DUV成本为ASML 1980i的1.5倍（路演数据），晶圆厂接受度待验证
美国2025年可能将DUV 1980i纳入管制（德邦电子提示），导致低端替代窗口缩短
中泰电子预测"2025年28nm量产"，但民生路演显示"需客户迭代3-5年"，时间预期差显著
当前处于主题炒作向基本面过渡阶段，低端供应链（i线/KrF）已进入订单兑现期，高端（EUV）仍为远期故事。
≥70%为量产信号
≥50亿元为政策加码信号
若新增1980i，将加速国产替代
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